本文基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)微結(jié)構(gòu)圖章的轉(zhuǎn)印技術(shù)將紫外固化膠圖形轉(zhuǎn)移到PMMA基底上,形成紫外固化膠/PMMA雙層膠結(jié)構(gòu),用等離子刻蝕(RIE)后,得到具有內(nèi)切結(jié)構(gòu)的光刻膠掩膜,鍍金屬膜并去膠獲得周期性微納結(jié)構(gòu)。由于界面間粘附能的差異,紫外固化膠圖形可以在無粘附劑輔助下成功轉(zhuǎn)移到PMMA基底上。比較PMMA和這種紫外固化膠在氧氣等離子中的刻蝕速率,表明紫外固化膠在氧氣等離子體中具有高抗刻蝕性,有利于底層的PMMA形成去膠所需的內(nèi)切結(jié)構(gòu)。

【文章頁數(shù)】：4 頁

【部分圖文】：

圖３．１０微納米線陣結(jié)構(gòu)的ＳＥＭ圖??

３．２．９?基于紫外固化膠／ＰＭＭＡ雙層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)的微納結(jié)構(gòu)制作的結(jié)果??根據(jù)前文所介紹的實(shí)驗(yàn)過程，并且迪過對在實(shí)驗(yàn)中所出現(xiàn)的問題進(jìn)行改進(jìn)，??最終得到較為理想的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。如下圖３．９，是通過基于紫外固化膠／ＰＭＭＡ雙??層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)得到的微結(jié)構(gòu)的ＳＥＭ圖。從圖中我們可Ｗ看出ＰＭ....

圖３．１１微納米娃點(diǎn)陣ＳＥＭ圓??

３．２．９?基于紫外固化膠／ＰＭＭＡ雙層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)的微納結(jié)構(gòu)制作的結(jié)果??根據(jù)前文所介紹的實(shí)驗(yàn)過程，并且迪過對在實(shí)驗(yàn)中所出現(xiàn)的問題進(jìn)行改進(jìn)，??最終得到較為理想的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。如下圖３．９，是通過基于紫外固化膠／ＰＭＭＡ雙??層膠轉(zhuǎn)印技術(shù)得到的微結(jié)構(gòu)的ＳＥＭ圖。從圖中我們可Ｗ看出ＰＭ....

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