基于有機鐵電介質的容變存儲器關鍵技術研究
發(fā)布時間:2024-06-13 23:32
近年來信息技術的飛速發(fā)展對電子器件提出了更高的要求,基于無機鐵電膜制備的存儲器件已經實現商品化。但是無機鐵電材料需要在高溫下與硅器件集成,造成鐵電膜和硅基界面的相互擴散。且無機鐵電材料和氧化膜的介電常數差別很大,導致生成較高的退極化場。而有機鐵電則具有相對較小的介電常數,器件中的氧化物不會在鐵電膜內產生大的退極化場。相比而言,有機鐵電存儲器的制備工藝簡單,易于集成,并可實現遠高于無機鐵電的存儲密度。本論文對100納米厚度尺度的P(VDF-TrFE)共聚物鐵電薄膜的制備、測試方法和參數進行了研究,分析了與成膜質量有關的表面形貌、物相特征、電容電壓特性以及與可靠性相關的保持時間和疲勞特性,獲得了以下結果: 1.制備和測試的方法和流程。通過考察薄膜的幾何尺度,選擇了旋涂法制備,退火后上下電極選用蒸鍍的方式。由于選用能提高性能的二氧化硅層介于其中,故選用C-V特性曲線表征電學性能。 2.C-V測試參數和制備參數對測試結果的影響。首先考察了測試參數對結果的影響,發(fā)現加載的交流小信號的擺幅對結果無顯著影響。而掃描時間在0秒到10秒有較明顯差異,大于10秒之后差異減小到可以忽略。之后考察了制備參數對...
【文章頁數】:58 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
本文編號:3993814
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圖1.2a相和p相PvDF結構示意圖
圖1.2a相和p相PvDF結構示意圖a相分子鏈結構(TG十TG一結構)b)刀相分子鏈結構(al1一trans結構a相晶體單胞結構d)刀相晶體單胞結構VDF的壓電鐵電性需要PVDF在一定的結構上存在,并且能夠被電這樣PVDF的壓電鐵電性才能被應用而制造成為器件。我們選擇M載體。選擇....
圖2.4c一v測試儀的電氣連接
儀器選用實驗室現有的Aglient4294A阻抗分析儀,測試電極,電路連接如圖2.4所示。端口信號如表2表2.1Aglient4294A阻抗分析儀端口列表低電流端端低電勢端端高電流端端高電勢端端arddd信號端口適配器器,Lc,Lp連接到探針,并和樣品一端電極相連,而H,ck)和....
圖2.7PVDF薄膜的原子力顯微鏡(AFM)圖像
蒸鍍頂部和底部電極。先蒸鍍頂部電極。將樣品真空鍍膜機的爐腔內,并將潔凈的鋁絲置于發(fā)熱10一,torr。將鎢絲電壓加到100V,進行對鋁絲的V,將鋁蒸發(fā)到樣品上表面。蒸鍍完成后將電壓閥門打開。當爐腔內壓強恢復到一個大氣壓后,擦拭清理背面在旋涂步驟用與固定的雙面膠的沾不再贅述。品的制....
圖2.8ODCBiasIVO妞符合理論推測的C一V特性曲線
20mv。在測試過程中,發(fā)現C一V特性曲線極為不穩(wěn)定。在某些樣品上C一V特性曲線的形狀符合理論推測,如圖2.8。但是在某些樣品上得到的C一V特性曲線卻極為離散,無法解釋,如圖2.9。一一、000000000000任EEEEE刀乃力DD習已6432,﹂、巴....
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