為了提高SiO₂薄膜質(zhì)量,將晶振膜厚控制儀用于沉積速率采集,采用閉環(huán)反饋控制電子槍燈絲兩端電壓,利用Ziegler-Nichols整定經(jīng)驗(yàn)法確定PID參數(shù)范圍,并通過天牛須搜索-粒子群算法（BSO）實(shí)現(xiàn)參數(shù)自整定,從而改變電子束束流大小,實(shí)現(xiàn)薄膜沉積速率的穩(wěn)定控制;實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在本控制系統(tǒng)下,沉積速率在4 s左右建立穩(wěn)態(tài)且波形無(wú)明顯振蕩,相比于遺傳算法,BSO算法全局搜索能力更強(qiáng),該方法可用于電子束蒸發(fā)鍍膜過程中不同靶材沉積速率的控制,可進(jìn)一步提高薄膜表面均勻性。

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【文章目錄】：
1 沉積速率控制系統(tǒng)
    1.1 沉積速率控制系統(tǒng)組成
    1.2 沉積速率控制系統(tǒng)模型
2 基于BSO的PID算法
    2.1 BSO算法原理
    2.2 基于BSO的PID參數(shù)整定
3 實(shí)驗(yàn)仿真
4 總結(jié)



本文編號(hào)：4057035