采用直流反應磁控濺射方法,通過濺射鑲嵌靶（CrMoTaNbV）和純Ti靶制備了（CrMoTaNbVTi）N多主元氮化物薄膜。研究了不同氮氣流量比R_N(N₂/（Ar+N₂）)對（CrMoTaNbVTi）N薄膜的微觀結構、力學性能和摩擦學性能的影響。結果表明,當R_N=0%和R_N=10%時薄膜為簡單的體心立方結構,當RN=20%,30%,40%時為簡單的面心立方結構。隨著R_N的增大,表面顆粒逐漸減小,斷面柱狀晶更為致密,同時（CrMoTaNbVTi）N薄膜的殘余應力、膜基結合力、硬度和彈性模量逐漸增大,且當R_N=40%時達到最大值,分別為-3.3 GPa, 352 m N, 25.6±1.2GPa和278.8±11.2 GPa。R_N=40%制備的氮化物薄膜具有最小的比磨損率,相較合金薄膜降低了約1個數量級,表現出優異的耐磨損性能。

【文章頁數】：7 頁

【文章目錄】：
1 Experiment
2 Results and Discussion
    2.1 Chemical composition and deposition rate
    2.2 XRD analysis
    2.3 Surface and cross-sectional morphology
    2.4 Mechanical properties
3 Conclusions



本文編號：4057251